Neben den internationalen Normungsorganisationen ISO und IEC (siehe unten) sind noch eine Reihe weiterer Organisationen in der internationalen Normungs- und Richtlinienarbeit aktiv, auch auf dem Gebiet der Nanotechnologie. Im Februar 2008 wurde von ISO/IEC/OECD und NIST ein Workshop organisiert, in dem die unterschiedlichen Organisationen ihre verschiedenen Aktivitäten im Bereich der Nanotechnologie-Normung vorgestellt und diskutiert haben. Die Präsentationen und Ergebnisse des Workshops sind hier einsehbar:
www.iso.org/nanotech-workshop.

1. ISO

1.1 ISO TC 201 Surface Chemical Analysis

Ein vollwertiges nationales DIN-Spiegelgremium existriert (noch) nicht, derzeit z. T. mitbetreut über DIN NA 062-08-17 AA Nanotechnologien (allerdings sehr eingeschränkt). Bemühungen zur Einrichtung eines Spiegelgremiums laufen (s.u.).

In diesem TC sind insgesamt 28 Länder vertreten (10 „participating members“ und weitere 18 mit Beobachterstatus, darunter Deutschland - siehe dazu aber weiter unten). Daneben bestehen einige Liaisons z. B. zu ISO TC 213 und TC 229.

Derzeit existieren 9 Subkomitees (Sub-Committees):

- SC 1 Terminology
- SC 2 General procedures '
- SC 3 Data management and treatment
- SC 4 Depth profiling
- SC 5 Auger electron spectroscopy
- SC 6 Secondary ion mass spectrometry
- SC 7 X-ray photoelectron spectroscopy
- SC 8 Glow discharge spectroscopy
- SC 9 Scanning probe microscopy

Das mit Abstand aktivste Subkomitee ist derzeit SC 9 „Scanning Probe Microscopy“. Dort laufen aktuell etwa 10 Normungsprojekte, zahlreiche weitere befinden sich national und international in Vorbereitung. Unter anderem wird eine Norm zur Kalibrierung von Rastersondenmikroskopen entwickelt: WD 11952 „Basic dimensional calibration of SPMs“, Projektleiter ist T. Dziomba, PTB. Dieser Normenentwurf basiert im Wesentlichen auf der Richtlinie (VDI/VDE 2656 – Blatt 1: Bestimmung geometrischer Messgrößen mit Rastersondenmikroskopen – Kalibrierung von Messsystemen), die im Ausschuss VDI/VDE-GMA 3.41/43 erarbeitet wurde (s. weiter oben). Die anderen Normungsprojekte behandeln spezielle SPM-Modi wie optische Nahfeldmikroskopie (NSOM/SNOM) und spezielle elektrische Modi (ESPM, SSRM, SCM, etc), Sondenbeschreibung und –charakterisierung und andere Themen aus dem SPM-Umfeld. Neben allgemeinen dimensionellen Anforderungen wird insbesondere auf die z. T. speziellen Bedürfnisse der Halbleitertechnik, Materialwissenschaft und Nanobiowissenschaften eingegangen. Nur in diesem SC ist Deutschland formal als stimmberechtigtes Mitglied vertreten, allerdings nur provisorisch, da derzeit (noch) kein eigenständiges DIN-Spiegelgremium existiert.

Kontakt:
Thorsten Dziomba, PTB
Telefon: 0531 592 5122
E-mail: Diese E-Mail-Adresse ist vor Spambots geschützt! Zur Anzeige muss JavaScript eingeschaltet sein!

Das ISO TC 201 plant, weitere Techniken in seinen Aufgabenbereich aufzunehmen. Derzeit gibt es 2 aktive Arbeitsgruppen (Working Groups):

WG 2 X-Ray Reflectometry (XRR)
WG 3 Transmission X-Ray Fluorescence (TXRF)

Daneben ist die Aufnahme von Normungsaktivitäten für die Scanning Laser Confocal Microscopy (SLCM) insbesondere für biologische Anwendungen bereits beschlossen worden. Auch aufgrund der Ausweitung der Themengebiete erscheint eine voll stimmberechtigte Mitarbeit Deutschland mehr denn je geboten.

WICHTIGER HINWEIS:
Derzeit wird deshalb die Gründung eines DIN-Spiegelgremiums zum ganzem TC 201 inkl. seiner SCs und WGs wird angestrebt. Eine erste Info-Veranstaltung von DIN und PTB mit interessierten Firmen fand bereits im November 2009 auf einem Workshop statt. Eine weitere Informationsveranstaltung ist für den 19. April 2010 im DIN-Gebäude in Berlin geplant. Interessierte Firmen und andere Interessenten aus den Bereichen der
- analytischen Techniken (siehe SCs 4 bis 8)
- Rastersondenmikroskopie (SC 9)
- Röngtenreflexions- und –fluoreszenzverfahren (WGs 2 und 3)
- konfokalen optischen, insbesondere spektroskopischen Techniken
sind herzlich eingeladen, an dieser kostenlosen Veranstaltung teilzunehmen! Ein DIN-Spiegelgremium kann allerdings nur eingerichtet werden, wenn eine ausreichende Zahl von Firmen zur Mitarbeit bereit ist.
Kontakte:

Dr.-Ing. Michael Schmitt (DIN)
Telefon: 030 2601-2783,
e-mail: Diese E-Mail-Adresse ist vor Spambots geschützt! Zur Anzeige muss JavaScript eingeschaltet sein!,

Dr. Wolfgang Unger (BAM),
Telefon: 30 8104-1823
e-mail: Diese E-Mail-Adresse ist vor Spambots geschützt! Zur Anzeige muss JavaScript eingeschaltet sein!

Thorsten Dziomba (PTB)
Telefon: 0531 592 5122
e-mail: Diese E-Mail-Adresse ist vor Spambots geschützt! Zur Anzeige muss JavaScript eingeschaltet sein!

1.2 ISO TC 202 Microbeam analysis

National DIN NA 062-08-18 AA „Elektronenmikroskopie und Mikrobereichsanalyse“ besteht aus 4 Subkomitees, in denen insgesamt 16 Länder vertreten sind (10 „participating members“, darunter Deutschland und weitere 6 mit Beobachterstatus.

Die Arbeitsthemen der SCs sind:
- SC1, Terminologie;
- SC2, Elektronen-Mikroanalyse;
- SC3: Analytische Elektronenmikroskopie und
- SC4, Rasterelektronenmikrosokopie.

Im SC 4 „Scanning electron microscopy (SEM)“ wird z.Zt. an einer Norm zur Definition von Mess- und Auswerteverfahren zur Bestimmung der Auflösung von Rasterelektronenmikroskopen gearbeitet.

Kontakt:
Dr.-Ing. Michael Schmitt (DIN)
Telefon: 030 2601-2783,
e-mail: Diese E-Mail-Adresse ist vor Spambots geschützt! Zur Anzeige muss JavaScript eingeschaltet sein!

1.3 ISO TC 229 Nanotechnology

National DIN NA 062-08-17 AA Nanotechnologien
existiert seit November 2005 und befasst sich mit der Entwicklung von Normen für Terminologie, Messtechnik und umweltrelevanten Angelegenheiten.
Beteiligt sind 32 ISO-Mitgliedsländer, darunter auch Deutschland (voll stimmberechtigt). Weitere zehn haben Beobachterstatus. Es besteht folgende Untergruppierung:
- WG1: Terminology and Nomenclature
- WG2: Measurement and Characterization
- WG3: Health, Safety and Environmental Aspects of Nanotechnologies
- WG4: Material Specifications (Ende 2007 gegründet)

Von diesen Arbeitsgruppen werden z. Zt. zahlreiche Normungsentwürfe bearbeitet, wobei die Mehrzahl bzgl. der Messtechnik im Bereich der WG2 angesiedelt ist. Schwerpunkt ist die Charakterisierung von Carbon Nanotubes. Ferner werden Normen zur Nomenklatur und zur Toxizität bearbeitet.

Da Nanotechnologien in vielen Industrien potenziell eine (zukünftige) Rolle spielen können, gibt es eine Vielzahl an Berührungspunkten und möglichen Überschneidungen mit anderen Normungsgremien und Organisationen. Um frühzeitig gegenseitiges Einvernehmen zu erzielen, wurden daher bereits 21 ISO-interne Liaisons zu anderen ISO-TCs (darunter TC 201, TC 202 und TC 213), zu CEN- und IEC-TCs sowie externe Liaisons zur OECD, den Joint Research Centres der Europäischen Kommission, zum Asia Nano Forum, zu VAMAS, zum BIPM und anderen etabliert. Die Liste der Liaisons unterstreicht somit den interdisziplinären Charakter der Nanotechnologien und ihre weitreichenden Implikationen weit über die eigentlichen technische Umsetzungen hinaus bis hin zu Umwelt-, Verbraucherschutz- und Gesundheitsfragen sowie juristischen, anderen regulatorischen und allgemein-gesellschaftlichen Aspekten.
Innerhalb der WGs ist die Arbeit in Project Groups (PGs) organisiert, die sich mit den einzelnen Normungsvorhaben beschäftigen.

In WG1 sind dies:
- PG2 TR: Framework concepts for terminology
- PG3 TS: Terminology and definitions – Carbon nano-objects
- PG4 TR: Outline of a method for nanomaterials classification
- PG5 TS: Terminology and Definitions – Core terms
- PG6 TS: Terminology and Definitions – Nanostructured materials
- PG7 TS: Terminology and definitions – Bio-nano interface
- PG8 TS: Terminology and definitions – Nanoscale measurement and instrumentation
- PG9 TS: Terminology and definitions – for medical, health and personal care applications
- PG10 TS: Terminology and Definitions - Nanomanufacturing processes
- PG11 TR: Framework for Nomenclature Models for Nano-objects

WG2 beschäftigt sich in 4 Themengebieten mit folgenden Vorhaben:

a) Carbon nanotubes and related structures - Single wall CNTs
- PG1: TEM,
- PG2: SEM/EDXA,
- PG3: UV-Vis-Nir Absorption,
- PG4: NIR-Fluorescence,
- PG6: EGA-GCMS,
- PG7: TGA,
- PG8: Raman

b) Carbon nanotubes and related structures - Multi wall CNTs
- PG5: Measurement methods,
- PG9: Shape factor
- PG12: ICP-MS

c) Engineered nanoparticles
PG10: Nanoparticle content

d) Basic metrology
PG11: Artificial grating (unter Leitung von H. Bosse, PTB)

In WG3 laufen derzeit folgende Projekte (in Klammern: Status gegen Ende 2009):
- PG2 Endotoxin test on nanomaterial samples for in vitro systems - Japan (DIS)
- PG3 Generation of nanoparticles for toxicological testing – Korea (DIS)
- PG4 Monitoring nanoparticles in inhalation exposure chambers – Korea (DIS)
- PG5 Guidance on physico-chemical characterization of enginered nano-objects for toxicologic assessment - USA (draft)
- PG6 Guide to safe handling and disposal of manufactured nanomaterials - UK (draft expected)
- PG7 Nanomaterial Risk Evaluation - USA (TR ballot)
- PG8 Guidelines for occupational risk management applied to engineered nanomaterials based on a control banding approach - France (revision of draft)
- PG9 Preparation of MSDS for Nanomaterials (draft revised)
- PG10 Surface characterization of gold nanoparticles for nanomaterial specific toxicity screening: FT-IR method (early stage)

WG4 berichtetw im Herbst 2009 Folgendes:
PG1 and PG2 document ISO/TS 11931-1 and ISO/TS 11937-1 for Calcium Carbonate and Titanium Dioxide may be ready for a CD ballot in late 2010
PG3 ISO/TS 12805 Guidance on specifying nano-objects will be ready for a CD ballot in mid 2010
PG 4 and PG5 ISO/TS 11931-2 and ISO/TS 11937-2 for Calcium Carbonate and Titanium Dioxide has been paused (discussions with other TCs pending)
ISO/TC206

Kontakt:
Dr.-Ing. Michael Schmitt (DIN)
Telefon: 030 2601-2783,
e-mail: Diese E-Mail-Adresse ist vor Spambots geschützt! Zur Anzeige muss JavaScript eingeschaltet sein!;
siehe auch die Informationen weiter unten

2. IEC

2.1 IEC TC 113 Nanotechnology standardization for electrical and electronic products and systems

National DKE/K 141, befasst sich mit der Normung der Technologie, die für elektrische und elektronische Produkte und Systeme auf dem Gebiet der Nanotechnologie relevant sind. Das TC arbeitet in enger Kooperation insbesondere mit ISO TC 229. Deutlich wird das u. a. dadurch, dass seit Ende 2007 zwei der drei Arbeitsgruppen gemeinsam mit dem entsprechenden Arbeitsgruppen des ISO TC 229 arbeiten (sog. Joint Working Groups, JWG).

Working Groups:
- WG1: Terminology and Nomenclature (“Joint Working Group with ISO TC 229, ISO lead”)
- WG2; Measurement and Characterization (“Joint Working Group with ISO TC 229, ISO lead”)
- WG3: Performance of Nanomaterials for Electrotechnical Components and Systems

Von der WG3 wird z.Zt. ein Normenentwurf (IEC 62565) zum Thema „Guideline for carbon nanotubes specifications for electrotechnical applications“ bearbeitet.

Kontakt:
Dr. Fabricius (Obmann DKE 141)
Telefon: 0 7247 82-8585
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3. OECD (Organisation for Economic Co-operation and Development)

Die OECD gründete 2006 einen Arbeitskreis "Gefertigte Nanomaterialien" (WPMN).
Steering groups:
- OECD WPMN SG1: OECD Database on Safety Research
- OECD WPMN SG2: Research Strategies on Manufactured Nanomaterials
- OECD WPMN SG3: Safety Testing of a Representative Set of Manufactured Nanomaterials
- OECD WPMN SG4: Manufactured Nanomaterials and Test Guidelines
- OECD WPMN SG5: Co-operation on Voluntary Schemes and Regulatory Programmes
- OECD WPMN SG6: Co-operation on Risk Assessment
- OECD WPMN SG7: The Role of Alternative Methods in Nano Toxicology
- OECD WPMN SG8: Exposure Measurement and Exposure Mitigation

4. SEMI (Semiconductor Equipment and Material Institute)

Die von SEMI-Mitgliedern erarbeiteten Technologien sind für eine Vielzahl verwandter Industrien anwendbar, wie z. B. Flachbildschirme und Mikro-elektromechanische Systeme (MEMS). Daher fährt SEMI fort, innovative Programme in entsprechenden Technologiebereichen zu verfolgen. SEMI sieht sich als alleiniger globaler Vertreter der Halbleiter-, Display-, MEMS- und angrenzender Industrien.